優和特許事務所は1989年に設立し、おかげさまで創業22周年を迎えました。

＜主な技術分野＞
■光学機器
　　（眼鏡レンズ、眼内レンズ等の各種光学レンズ、光アイソレータ、偏光素子、ファイバコリメーター、
光導波路等の光応用素子及びこれらを用いた各種光学系、記録媒体用ガラス基板、フォトマスク、
マスクブランクス等）
■非鉄金属材料
　　（各種半導体材料、セラミックス材料、フィルム材料、フィルタ材料、蛍光体材料、酸化物超電導
体材料、水素吸蔵合金、めっき処理、熱処理、レアメタル等の貴金属回収、インゴット結晶成長等）
■半導体製造装置
　　（気相成膜装置、エッチング装置、酸化・拡散装置、熱処理装置、プラズマ処理装置等の各種ウエハ
処理装置、ウエハ搬送システム、真空応用システム等）
■電子デバイス
　　（ＨＥＭＴや発光素子などの化合物半導体素子、圧電素子、テープキャリアやプリント基板、アンテナ、
燃料電池、タッチパネル、電力ケーブル、光ファイバ、耐屈曲ケーブル等）
■ソフトウェア応用機器
　　（装置制御システム、ゲーム機、遊技機、ＡＳＰ、ビジネスモデル特許等）